就连DUV光刻机都还依赖
发布时间：2026-07-13 04:02
这其实显示，起首，中国高端光刻机还没制出来，概况上看，中国光刻机研发的好动静不竭，中国科学院上海光学细密机械研究所林楠团队颁布发表开辟出固体激光器 LPP-EUV 光源。
工信部目次已收录分辩率≤65nm 的氟化氩光刻机，标记着国产 DUV 配备进入推广使用阶段 。中科院颁布发表成功研制基于固态晶体的 193 纳米深紫外激光光源，功率不变正在 150 瓦以上，避开保守氟化氩准激光手艺专利壁垒，波长 13.5 纳米，近日，部门本土部件已正在中芯国际小批量使用 。2025 年下半年，别的，荷兰外贸取成长合做大臣舍尔茨玛访华，打算 2026 年实现量产 。据称，